Borongan CoCrAlY alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film PVD palapis Custom Made Produsén jeung Supplier |Beunghar

Kobalt Chromium Aluminium Yttrium

CoCrAlY Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film PVD Coating Custom Made Featured Image

Katerangan pondok:

Kategori	Paduan Sputtering Target
Rumus Kimia	CoCrAlY
Komposisi	Kobalt Chromium Aluminium Yttrium
Kasucian	99,9%, 99,95%, 99,99%
Wangun	Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus
Prosés Produksi	Lebur vakum
Ukuran sadia	L≤200mm, W≤200mm

Kirim surélék ka kami

Rincian produk

Tag produk

Kobalt Chromium Aluminium Yttrium Sputtering Target Pedaran

Target sputtering kobalt Chromium Aluminium Yttrium mangrupakeun alloy basis Kobalt ditambah Kromium Aluminium sarta elemen Yttrium.Éta nunjukkeun paripolah tahan korosi anu hébat dina médium uyah lebur (natrium sulfat, natrium nitrat, natrium karbonat, kalsium sulfat, kalsium sulfat, natrium klorida kalium klorida, natrium klorida natrium sulfat) dina suhu anu luhur.Chromium Aluminium Yttrium bisa boga babandingan béda, gumantung kana lingkungan operasional tina lapisan.Biasana, alloy bakal nembongkeun struktur biphasic sedengkeun eusi Chromium nyaeta 20-40% (wt, Aluminium 5-20% (wt), sarta Yttrium 0,5% (wt).

Target Kobalt Chromium Aluminium Yttrium bisa disimpen dina beungeut komponén suhu luhur dipaké dina aerospace, pesawat, jeung industri turbin gas.Lapisan jenis ieu tiasa manjangkeun umur jasa ku sapuluh rébu jam.

Kobalt Chromium Aluminium Yttrium Sputtering Target bungkusan

Target sputter CoCrAlY kami jelas ditandaan sareng dilabélan sacara éksternal pikeun mastikeun idéntifikasi efisien sareng kontrol kualitas.Perhatian hébat dilaksanakeun pikeun ngahindarkeun karusakan anu tiasa disababkeun nalika neundeun atanapi transportasi.

Meunang Kontak

Target sputtering Cobalt Chromium Aluminium Yttrium RSM nyaéta kamurnian ultra luhur sareng seragam.Éta sadia dina sagala rupa wangun, purities, ukuran, jeung harga.Urang ngahususkeun dina ngahasilkeun purity tinggi bahan palapis film ipis jeung kinerja alus teuing ogé kapadetan pangluhurna mungkin jeung ukuran séréal rata pangleutikna mungkin pikeun dipaké dina palapis kapang, hiasan, bagian mobil, low-E kaca, semi-konduktor sirkuit terpadu, film ipis. résistansi, tampilan grafis, aerospace, rékaman magnét, layar rampa, film ipis batré surya sarta aplikasi déposisi uap fisik (PVD) lianna.Mangga kirimkeun kami hiji panalungtikan pikeun harga ayeuna on sputtering target jeung bahan déposisi séjén teu didaptarkeun.

saméméhna: CrW Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Teras: CoFeTaZr Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun