Borongan CrFe Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Custom Made Produsén jeung Supplier |Beunghar

Beusi Kromium

CrFe Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun Diulas Gambar

Katerangan pondok:

Kategori	Paduan Sputtering Target
Rumus Kimia	CrFe
Komposisi	Beusi Kromium
Kasucian	99,9%, 99,95%, 99,99%
Wangun	Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus
Prosés Produksi	Lebur vakum, PM
Ukuran sadia	L≤200mm, W≤200mm

Kirim surélék ka kami

Rincian produk

Tag produk

Target sputtering alloy Beusi kromium dijieun ku cara lebur vakum atawa metallurgy bubuk.alloy CrFe geus dipaké salaku bahan dasar dina industri produksi baja.Nambahkeun Chromium kana baja ningkatkeun oksidasi sareng résistansi korosi, sedengkeun Chromium ditambah kana tuangan Beusi.
bakal ngangkat teu karasa jeung ngaronjatkeun daya tahan maké jeung machinability.

Bahan Khusus Beunghar khusus dina Pabrikan Sputtering Target sareng tiasa ngahasilkeun Bahan Chromium Iron Sputtering numutkeun spésifikasi Pelanggan.

Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.

saméméhna: CrTi Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Teras: CrCu alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun