Wilujeng sumping di situs wéb kami!

FeCoTa Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Beusi Kobalt Tantalum

Katerangan pondok:

Kategori

Paduan Sputtering Target

Rumus Kimia

FeCoTa

Komposisi

Beusi Kobalt Tantalum

Kasucian

99,9%, 99,95%, 99,99%

Wangun

Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus

Prosés Produksi

Lebur vakum, PM

Ukuran sadia

L≤200mm, W≤200mm


Rincian produk

Tag produk

Target Beusi Kobalt Tantalum biasana aya dina bentuk sirkular sareng bahan pilem ipis kritis média rékaman magnét nangtung.Jumlah considerable tina Tantalum hadir dina alloy bakal ngahasilkeun segregation sarta hadir partikel undissolved.Kami nganggo metode produksi unik anu tiasa mastikeun homogénitas struktur mikro sareng ningkatkeun sipat mékanis bahan.

Ngaran Produk

FeCoTa

Fe/wt%

Kasaimbangan

Kasaimbangan

Kasaimbangan

Co/wt%

21,6±0,5

21.9±0.5

20.2±0.5

Ta/wt%

41.1±0.8

39,4±0,8

44,3 ± 0,8

Kandungan najis logam(ppm)

Ni

≤100

≤100

≤100

Al

≤300

≤300

≤300

Si

≤200

≤200

≤200

Kandungan najis gas(ppm)

C

≤200

≤200

≤200

N

≤100

≤100

≤100

O

≤600

≤600

≤600

S

≤75

≤75

≤75

Bahan Khusus Beunghar specializes dina Pabrik Sputtering Target sarta bisa ngahasilkeun Beusi Kobalt Tantalum Sputtering Bahan nurutkeun spésifikasi Konsumén '.Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.


  • saméméhna:
  • Teras: