Borongan NiAl Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Custom Made Produsén jeung Supplier |Beunghar

Nikel Aluminium

NiAl Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun Diulas Gambar

Katerangan pondok:

Kategori	Paduan Sputtering Target
Rumus Kimia	NiAl
Komposisi	Nikel Aluminium
Kasucian	99,9%, 99,95%, 99,99%
Wangun	Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus
Prosés Produksi	Lebur vakum
Ukuran sadia	L≤200mm, W≤200mm

Kirim surélék ka kami

Rincian produk

Tag produk

Nikel Aluminium alloy sputtering target dihasilkeun ku cara lebur vakum jeung metallurgy kakuatan.Pergaulan Aluminium sarta Nikel dina jumlah diperlukeun pikeun nyadiakeun ingot casting NiAl.Ingot tuang teras dipotong pikeun ngabentuk bentuk target anu dipikahoyong.Cai mibanda konsistensi tinggi, ukuran sisikian refined jeung mikrostruktur homogen, tanpa gas puff atawa pori.

Kusabab kombinasi anu saé tina palapis sareng bahan substrat, palapis NiAl ngagaduhan kinerja anu saé dina 700 ℃.Ayeuna target sputtering NiAl sacara éksténsif dianggo dina palapis tahan tahan, kalebet alat motong, kapang, otomotif sareng industri konstruksi.

Bahan Khusus Beunghar mangrupikeun Produsén Target Sputtering sareng tiasa ngahasilkeun Bahan Sputtering Nikel Aluminium numutkeun spésifikasi Pelanggan.Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.

saméméhna: NiCrCu Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Teras: NiMo Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun