TaNb Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun
Tantalum Niobium
Tantalum Niobium Sputtering Target Pedaran
Target sputtering Tantalum Niobium dijieun ku cara vakum lebur Tantalum jeung Niobium.Ieu dua titik lebur tinggi (Tantalum 2996 ℃, Niobium 2468 ℃), titik golak tinggi (Tantalum 5427 ℃, Niobium 5127 ℃) logam langka.Tantalum Niobium alloy boga penampilan sarupa jeung baja, éta ngabogaan lustre pérak-abu (bari bubukna abu poék).Cai mibanda loba pasipatan nguntungkeun: lalawanan korosi, superconductivity, sarta kakuatan suhu luhur.Janten naon waé aplikasi atanapi industri tiasa nyandak kauntungan tina ngagunakeun alloy Tantalum Niobium, sapertos éléktronika, kaca & optik, aerospace, alat médis, superkonduktivitas sareng baja.
Tantalum na Niobium geus krusial dina industri spasi salila sababaraha taun alatan kakuatan impressive maranéhanana, résistansi korosi sarta fitur pikaresepeun lianna, sarta geus dipaké dina loba komponén penting kawas mesin rokét sarta nozzles.
Tantalum Niobium Sputtering Target bungkusan
Target sputter TaNb kami jelas ditandaan sareng dilabélan sacara éksternal pikeun mastikeun idéntifikasi efisien sareng kontrol kualitas.Perhatian hébat dilaksanakeun pikeun ngahindarkeun karusakan anu tiasa disababkeun nalika neundeun atanapi transportasi.
Meunang Kontak
Target sputtering Tantalum Niobium RSM nyaéta kamurnian ultra luhur sareng seragam.Éta sadia dina sagala rupa wangun, purities, ukuran, jeung harga.Urang ngahususkeun dina ngahasilkeun purity tinggi bahan palapis film ipis jeung kinerja alus teuing ogé kapadetan pangluhurna mungkin jeung ukuran séréal rata pangleutikna mungkin pikeun dipaké dina palapis kapang, hiasan, bagian mobil, low-E kaca, semi-konduktor sirkuit terpadu, film ipis. résistansi, tampilan grafis, aerospace, rékaman magnét, layar rampa, film ipis batré surya sarta aplikasi déposisi uap fisik (PVD) lianna.Mangga kirimkeun kami hiji panalungtikan pikeun harga ayeuna on sputtering target jeung bahan déposisi séjén teu didaptarkeun.
