TiNb Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun
Titanium Niobium
Tantalum Niobium Sputtering Target Pedaran
Target sputtering Titanium Niobium dijieun ku cara lebur vakum atawa metallurgy kakuatan.Eusi titanium has nyaéta 66% (kira-kira 50 beurat%).Ieu mangrupa bahan superconductivity rongkah tur bisa dijieun kana rupa-rupa bahan praktis sanyawa ku deformasi konvensional sarta prosés perlakuan panas.
Titanium Niobium Sputtering Target bungkusan
Target sputter Titanium Niobium kami jelas ditandaan sareng dilabélan sacara éksternal pikeun mastikeun idéntifikasi anu efisien sareng kontrol kualitas.Perhatian hébat dilaksanakeun pikeun ngahindarkeun karusakan anu tiasa disababkeun nalika neundeun atanapi transportasi.
Meunang Kontak
Target sputtering Titanium Niobium RSM nyaéta kamurnian ultra luhur sareng seragam.Éta sadia dina sagala rupa wangun, purities, ukuran, jeung harga.
Urang bisa nyadiakeun rupa-rupa bentuk geometri: tabung, arc cathodes, planar atawa custom-dijieun.Produk kami ngagaduhan sipat mékanis anu saé, struktur mikro homogen, permukaan anu digosok kalayan henteu aya segregasi, pori, atanapi retakan.
Urang ngahususkeun dina ngahasilkeun purity tinggi bahan palapis film ipis jeung kinerja alus teuing ogé kapadetan pangluhurna mungkin jeung ukuran séréal rata pangleutikna mungkin pikeun dipaké dina palapis kapang, hiasan, bagian mobil, low-E kaca, semi-konduktor sirkuit terpadu, film ipis. résistansi, tampilan grafis, aerospace, rékaman magnét, layar rampa, film ipis batré surya sarta aplikasi déposisi uap fisik (PVD) lianna.Mangga kirimkeun kami hiji panalungtikan pikeun harga ayeuna on sputtering target jeung bahan déposisi séjén teu didaptarkeun.
