Wilujeng sumping di situs wéb kami!

TiTa Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Titanium Tantalum

Katerangan pondok:

Kategori

Paduan Sputtering Target

Rumus Kimia

TiTa

Komposisi

Titanium Tantalum

Kasucian

99,9%, 99,95%, 99,99%

Wangun

Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus

Prosés Produksi

Lebur vakum, PM

Ukuran sadia

L≤200mm, W≤200mm


Rincian produk

Tag produk

Titanium Tantalum sputtering target ieu fabricated ku cara lebur jeung casting.alloy Ti-Ta mangrupakeun bahan kritis pikeun komponén alat pembuangan runtah nuklir.Éta ogé gaduh sipat mékanis anu unggul, anu janten pertimbangan munggaran dina panggunaanana salaku bahan implan orthopedic.Sajaba ti éta, palapis TiTaN loba dipaké dina industri alat motong kapang pikeun maké alus teuing jeung lalawanan korosi.

Bahan Khusus Beunghar mangrupikeun Produsén Target Sputtering sareng tiasa ngahasilkeun Bahan Sputtering Titanium Tantalum numutkeun spésifikasi Pelanggan.Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.


  • saméméhna:
  • Teras: