CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film PVD palapis Adat Dijieun
Kromium Aluminium
Fabrikasi Target Sputtering Chromium Aluminium ngandung léngkah-léngkah ieu:
1. Bubuk grinding sarta Pergaulan.
2. perlakuan panas isostatic mencét pikeun meunangkeun produk semi-rengse.
3. Machining nu kasar kromium alloy aluminium sputtering bahan target pikeun ménta bahan target sputtering alloy aluminium kromium.
Salila prosés déposisi target sputtering CrAl, lapisan Aluminium-Chrom-Nitrid (AlCrN) kabentuk.Lapisan ieu nunjukkeun sipat teu karasa sareng résistansi oksidasi bahkan dina suhu anu luhur.The cutters bisa ngajalankeun dina feed tinggi pikeun ngaronjatkeun produktivitas jeung ningkatkeun kualitas nalika maké mesin CNC.
Sasaran khas AlCr kami sareng pasipatanana
| Cr-70Aldi% | Cr-60Aldi% | Cr-50Aldi% | |
| Kamurnian (%) | 99.8/99.9/99.95 | 99.8/99.9/99.95 | 99.8/99.9/99.95 |
| Kapadetan(g/cm3） | 3.7 | 4.35 | 4.55 |
| Ghujan Ukuran(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Prosés | HIP | HIP | HIP |
Bahan Khusus Beunghar specializes dina Pabrik Sputtering Target sarta bisa ngahasilkeun Aluminium Chromium Sputtering Bahan nurutkeun spésifikasi Konsumén '.Produk kami ngagaduhan sipat mékanis anu saé, struktur homogen, permukaan anu digosok tanpa segregasi, pori atanapi retakan.Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.
