Konsultan teknis RSM bakal babagi sareng anjeun kaunggulan cylindrical na planar magnetron sputtering target?Dibandingkeun jeung target sputtering magnetron sejen, cylindrical na planar magnetron sputtering target nahan kaunggulan palapis alus uniformity tina target planar rectangular, sarta bisa ngamaksimalkeun utilization tina target ngaliwatan dua cara di handap ieu:
(1) Nalika dua grup (opat) liang annular dina beungeut udagan ngahontal jero nu tangtu, target core (bagian magnét) bisa diputer 45 ° relatif ka tube target, ku kituna wewengkon séjén dina tube target. nu teu acan corroded bisa dipaké;
(2) Nalika inti udagan tina cylindrical na planar magnetron sputtering target dirancang salaku inti target puteran (inti target ieu puteran salila sputtering), beungeut udagan bisa merata sputtered kaluar lapisan ku lapisan tanpa liang.Dina waktu ieu, udagan bakal dipaké paling éféktif, sarta laju utilization tina udagan bisa ngahontal 50% ~ 60% Lamun bahan udagan téh logam mulia, ieu écés tina significance hébat.
Ku ngagunakeun prinsip magnet jeung kutub sapatu di coaxial cylindrical magnetron sputtering udagan pikeun ngajawab masalah tungtung médan magnét, udagan pesawat rectangular bisa disulap jadi cylindrical na planar magnetron sputtering udagan, Target bisa maksimalkeun pungsi laju utilization tina target. bari ngajaga uniformity palapis alus tina target pesawat rectangular Ku kituna pikeun ngaronjatkeun kauntungan ékonomi.
waktos pos: Jul-04-2022