Sakumaha urang terang, aya seueur spésifikasi sputtering target, sareng widang aplikasina ogé lega.Jinis target anu biasa dianggo dina widang anu béda ogé béda.Dinten ayeuna, hayu urang diajar ngeunaan klasifikasi widang aplikasi target sputtering sareng redaktur RSM!
1. Definisi udagan sputtering
Sputtering mangrupikeun salah sahiji téknologi utama pikeun nyiapkeun bahan pilem ipis.Ngagunakeun ion dihasilkeun ku sumber ion pikeun ngagancangkeun jeung ngumpulkeun dina vakum pikeun ngabentuk-speed tinggi beam ion, bombard beungeut padet, jeung ion nukeur énergi kinétik jeung atom dina beungeut padet, jadi atom dina padet. permukaan dipisahkeun tina padet sareng disimpen dina permukaan substrat.Padet anu dibom nyaéta bahan baku pikeun nyiapkeun pilem ipis anu disimpen ku sputtering, anu disebut target sputtering.
2, Klasifikasi widang aplikasi target sputtering
1. Sasaran semikonduktor
(1) Sasaran umum: target umum dina widang ieu kalebet logam titik lebur tinggi sapertos tantalum / tambaga / titanium / aluminium / emas / nikel.
(2) Pamakéan: utamana dipaké salaku bahan baku konci pikeun sirkuit terpadu.
(3) syarat kinerja: syarat teknis tinggi pikeun purity, ukuran, integrasi, jsb.
2. Target pikeun tampilan panel datar
(1) Sasaran umum: target umum dina widang ieu kalebet aluminium / tambaga / molybdenum / nikel / Niobium / silikon / kromium, jsb.
(2) Pamakéan: jenis ieu udagan lolobana dipaké pikeun rupa-rupa film wewengkon badag kayaning TV jeung notebooks.
(3) syarat kinerja: syarat luhur pikeun purity, aréa badag, uniformity, jsb.
3. Sasaran bahan pikeun sél surya
(1) target umum: aluminium / tambaga / molybdenum / kromium / ITO / Ta jeung target séjén pikeun sél surya.
(2) Pamakéan: utamana dipaké dina "lapisan jandela", lapisan panghalang, éléktroda jeung pilem conductive.
(3) syarat kinerja: syarat teknis tinggi na rentang aplikasi lega.
4. Target pikeun neundeun informasi
(1) Target umum: target umum kobalt / nikel / ferroalloy / kromium / tellurium / selenium jeung bahan séjén pikeun neundeun informasi.
(2) Pamakéan: jenis ieu bahan target utamana dipaké pikeun sirah magnét, lapisan tengah jeung lapisan handap drive optik jeung disc optik.
(3) syarat kinerja: dénsitas gudang luhur jeung speed transmisi tinggi diperlukeun.
5. Target pikeun modifikasi alat
(1) target umum: target umum kayaning titanium / zirconium / kromium alloy aluminium dirobah ku parabot.
(2) Pamakéan: biasana dipaké pikeun strengthening permukaan.
(3) syarat kinerja: syarat kinerja tinggi na hirup layanan panjang.
6. Sasaran pikeun alat éléktronik
(1) Target umum: alloy aluminium umum / target silicide pikeun alat éléktronik
(2) Tujuan: umumna dipaké pikeun resistors pilem ipis jeung kapasitor.
(3) syarat kinerja: ukuran leutik, stabilitas, koefisien hawa lalawanan low
waktos pos: Jul-27-2022