1. Métode sputtering Magnetron:
Magnetron sputtering bisa dibagi kana DC sputtering, sputtering frékuénsi sedeng jeung sputtering RF
A. DC sputtering catu daya téh mirah jeung dénsitas pilem disimpen téh goréng.Sacara umum, accu photothermal domestik jeung film ipis dipaké kalawan énergi low, sarta udagan sputtering nyaéta udagan logam conductive.
B. The RF sputtering énergi anu luhur, sarta udagan sputtering tiasa target non-conductive atawa udagan conductive.
C. target sputtering frékuénsi sedeng tiasa udagan keramik atawa udagan logam.
2. Klasifikasi jeung aplikasi sputtering target
Aya seueur jinis target sputtering, sareng metode klasifikasi target ogé béda.Numutkeun bentukna, aranjeunna dibagi kana udagan panjang, udagan pasagi sareng udagan buleud;Numutkeun komposisi, éta bisa dibagi kana udagan logam, udagan alloy jeung udagan sanyawa keramik;Numutkeun widang aplikasi béda, éta bisa dibagi kana semikonduktor patali target keramik, ngarekam target keramik sedeng, target keramik tampilan, jsb Sputtering target utamana dipaké dina industri éléktronik jeung informasi, kayaning industri gudang informasi.Dina industri ieu, sputtering target dipaké pikeun nyiapkeun produk pilem ipis relevan (hard disk, sirah magnét, disc optik, jsb).Ayeuna.Kalayan pamekaran industri inpormasi anu terus-terusan, paménta pikeun ngarékam target keramik sedeng di pasar ningkat.Panaliti sareng produksi ngarékam target sedeng parantos janten fokus perhatian anu ageung.
waktos pos: May-11-2022