Ayeuna, ampir kabéh target tambaga logam purity ultra-luhur luhur diperlukeun ku industri IC dimonopoli ku sababaraha pausahaan multinasional asing badag.Kabéh target tambaga ultrapure diperlukeun ku industri IC domestik perlu diimpor, nu teu ngan mahal, tapi ogé pajeulit dina prosedur impor Ku alatan éta, Cina urgently perlu ningkatkeun ngembangkeun sarta verifikasi ultra-luhur purity (6N) sputtering target tambaga. .Hayu urang tingali titik konci sareng kasusah dina pamekaran target sputtering tambaga ultra-tinggi (6N).
1、Ngembangkeun bahan purity ultra luhur
Téknologi purifikasi tina logam Cu, Al sareng Ta anu murni di Cina jauh tibatan di nagara-nagara maju industri.Ayeuna, lolobana logam-purity tinggi nu bisa disadiakeun teu bisa minuhan sarat kualitas sirkuit terpadu pikeun sputtering target nurutkeun konvensional sadaya métode analisis unsur di industri.Jumlah inclusions dina udagan teuing tinggi atawa disebarkeun unevenly.Partikel sering kabentuk dina wafer nalika sputtering, nyababkeun sirkuit pondok atanapi sirkuit kabuka interkonéksi, anu sacara serius mangaruhan kinerja film.
2、Ngembangkeun téknologi persiapan target sputtering tambaga
Ngembangkeun téknologi persiapan target sputtering tambaga utamina museurkeun kana tilu aspék: ukuran sisikian, kontrol orientasi sareng keseragaman.Industri semikonduktor boga syarat pangluhurna pikeun sputtering target na evaporating bahan baku.Éta ngagaduhan syarat anu ketat pikeun ngontrol ukuran sisikian permukaan sareng orientasi kristal target.Ukuran butir target kedah dikontrol dina 100μ M handap, kituna, kontrol ukuran sisikian jeung sarana analisis korelasi jeung deteksi pohara penting pikeun ngembangkeun target logam.
3、Ngembangkeun analisis jeungnguji téhnologi
Purity tinggi tina target hartina ngurangan najis.Baheula, plasma gandeng induktif (ICP) jeung spéktrométri nyerep atom dipaké pikeun nangtukeun najis, tapi dina taun panganyarna, analisis kualitas glow discharge (GDMS) kalawan sensitipitas luhur geus laun dipaké salaku standar. métode.Résistansi résistansi rasio RRR métode utamana dipaké pikeun nangtukeun purity listrik.Prinsip tekadna nyaéta pikeun ngira-ngira kamurnian logam dasar ku cara ngukur darajat dispersi éléktronik tina pangotor.Kusabab éta pikeun ngukur résistansi dina suhu kamar sareng suhu anu rendah pisan, éta gampang nyandak nomerna.Dina taun-taun ayeuna, pikeun ngajalajah hakekat logam, panilitian ngeunaan purity ultra-luhur aktip pisan.Dina hal ieu, nilai RRR nyaeta cara pangalusna keur evaluate purity nu.
waktos pos: May-06-2022