Sasaran sputtering nyaéta bahan éléktronik anu ngabentuk pilem ipis ku cara ngagantelkeun zat sapertos alloy atanapi oksida logam kana substrat éléktronik dina tingkat atom.Di antarana, udagan sputtering pikeun pilem blackening dipaké pikeun ngabentuk pilem dina EL organik atawa panel kristal cair pikeun blacken wiring jeung ngurangan reflectance lampu ditingali (reflectance low) tina wiring TFT.Target sputter ngagaduhan kaunggulan sareng épék ieu.Dibandingkeun jeung produk saméméhna, éta mantuan pikeun ngaronjatkeun darajat luhur fineness jeung kabebasan desain rupa mintonkeun, sarta ngurangan noise disababkeun ku wiring reflected lampu produk semikonduktor patali.
Kaunggulan jeung épék target aluminium:
(1) Saatos udagan aluminium kabentuk dina wiring nu, cahaya katempo bisa ngurangan
dibandingkeun jeung produk saméméhna, éta bisa ngahontal réfléksi low.
(2) DC sputtering bisa dipigawé tanpa gas réaktif
dibandingkeun jeung produk saméméhna, éta mantuan pikeun ngawujudkeun homogenitas pilem tina substrat badag.
(3) Saatos film kabentuk, prosés etching bisa dipigawé babarengan jeung wiring nu
saluyukeun bahan nurutkeun prosés etching aya konsumén, sarta bisa etch bareng jeung wiring nu tanpa ngarobah prosés aya.Salaku tambahan, perusahaan ogé bakal nyayogikeun dukungan dumasar kana kaayaan sputtering konsumén.
(4) Alus lalawanan panas, cai jeung lalawanan alkali
sajaba lalawanan cai sarta lalawanan alkali, éta ogé boga résistansi panas tinggi, jadi ciri pilem moal robah dina prosés ngolah wiring TFT.
waktos pos: Aug-10-2022