Sputtered molybdenum target geus loba dipaké dina industri éléktronika, sél surya, palapis kaca, jeung widang séjénna alatan kaunggulan alamiah maranéhanana.Kalayan kamajuan gancang téknologi modéren dina miniaturisasi, integrasi, digitalisasi, sareng intelijen, panggunaan target molibdenum bakal terus ningkat, sareng syarat kualitas pikeun aranjeunna ogé bakal langkung luhur.Janten urang kedah milarian cara pikeun ningkatkeun tingkat panggunaan target molybdenum.Ayeuna, redaktur RSM bakal ngenalkeun sababaraha metode pikeun ningkatkeun tingkat panggunaan sputtering target molybdenum pikeun sadayana.
1. Tambahkeun coil éléktromagnétik dina sisi sabalikna
Dina raraga ngaronjatkeun laju utilization tina target molybdenum sputtered, hiji coil éléktromagnétik bisa ditambahkeun dina sisi sabalikna tina planar Magnetron sputtering target molybdenum, sarta médan magnét dina beungeut target molybdenum bisa ngaronjat ku ngaronjatna arus coil éléktromagnétik, ku kituna pikeun ngaronjatkeun laju utilization tina target molybdenum.
2. Pilih bahan target puteran tubular
Dibandingkeun sareng target datar, milih struktur target puteran tubular nunjukkeun kaunggulan substantif na.Sacara umum, tingkat utilization tina target datar ngan 30% nepi ka 50%, sedengkeun laju utilization target puteran tubular bisa ngahontal leuwih 80%.Leuwih ti éta, lamun ngagunakeun puteran tabung kerung udagan Magnetron sputtering, saprak udagan bisa muterkeun sabudeureun assembly bar tetep magnet sadaya waktu, bakal aya euweuh redeposition dina beungeut cai, jadi kahirupan target puteran umumna leuwih ti 5 kali leuwih panjang. tibatan target pesawat.
3. Ganti ku parabot sputtering anyar
Konci pikeun ningkatkeun tingkat panggunaan bahan targét nyaéta ngabéréskeun ngagantian alat sputtering.Salila prosés sputtering bahan target sputtering molybdenum, ngeunaan hiji kagenep tina atom sputtering bakal deposit dina témbok chamber vakum atawa bracket sanggeus katandangan ion hidrogén, ngaronjatna biaya meresihan parabot vakum sarta downtime.Jadi ngaganti alat sputtering anyar ogé bisa mantuan ngaronjatkeun laju utilization of sputtering target molybdenum.
waktos pos: May-24-2023