Bahan target sputtered gaduh syarat anu luhur nalika dianggo, henteu ngan ukur pikeun kamurnian sareng ukuran partikel, tapi ogé pikeun ukuran partikel anu seragam.Syarat anu luhur ieu ngajantenkeun urang langkung nengetan nalika nganggo bahan target sputtering.
1. préparasi sputtering
Hal ieu kacida penting pikeun ngajaga kabersihan tina chamber vakum, utamana sistem sputtering.Pelumas, lebu, sareng résidu tina palapis saméméhna tiasa ngumpulkeun polutan sapertos cai, langsung mangaruhan vakum sareng ningkatkeun kamungkinan gagalna formasi pilem.Sirkuit pondok, busur udagan, permukaan anu ngabentuk pilem kasar, sareng pangotor kimiawi kaleuleuwihan biasana disababkeun ku kamar sputtering najis, bedil, sareng target.
Pikeun ngajaga ciri komposisi palapis, gas sputtering (argon atanapi oksigén) kedah beresih sareng garing.Saatos masang substrat dina chamber sputtering, hawa perlu sasari pikeun ngahontal tingkat vakum diperlukeun pikeun prosés.
2. Sasaran beberesih
Tujuan beberesih target nyaéta pikeun ngaleungitkeun lebu atanapi kokotor anu aya dina permukaan udagan.
3. Pamasangan target
Hal anu paling penting pikeun nengetan nalika prosés pamasangan bahan target nyaéta pikeun mastikeun sambungan termal anu saé antara bahan target sareng témbok cooling sputtering gun.Lamun témbok cooling atawa piring deui ieu parah warped, éta bisa ngabalukarkeun cracking atawa bending salila pamasangan bahan target.Mindahkeun panas ti udagan deui ka bahan udagan bakal greatly kapangaruhan, hasilna henteu mampuh dissipate panas salila sputtering, pamustunganana ngabalukarkeun cracking atawa simpangan tina bahan target.
4. sirkuit pondok tur inspeksi sealing
Saatos pamasangan bahan targét, perlu mariksa sirkuit pondok sareng sealing sadaya katoda.Disarankeun make hiji ohmmeter na megohmmeter pikeun nangtukeun mun katoda ieu pondok circuited.Saatos ngonfirmasi yén katoda henteu sirkuit pondok, deteksi bocor tiasa dilaksanakeun ku nyuntikkeun cai kana katoda pikeun nangtukeun naha aya bocor.
5. Target bahan pre sputtering
Disarankeun ngagunakeun gas argon murni pikeun pre sputtering tina bahan target, nu bisa ngabersihan beungeut bahan target.Disarankeun lalaunan ningkatkeun kakuatan sputtering salila prosés pre sputtering pikeun bahan target.Kakuatan bahan udagan keramik
waktos pos: Oct-19-2023